美国颇尔PALL
XpressKleen G2 XP 5nm过滤器实现了微孔PTFE膜开发的巨大进步，可应对14nm以下生产的严重污染控制挑战。颇尔公司的材料科学家和工程师团队发明了与当前设计不同的新型过滤器形态，其中采用了新开发的专有PTFE膜生产技术。 针对5nm以上关键尺寸颗粒，革命性的设计实现对5nm以上关键尺寸颗粒的佳控制，并且采用新的设备清洁度和纯度标准，可保证低于500ppt的单长度过滤器的总金属离子可溶出物1。专有的先进清洗方法使过滤器产生极低水平的有机物、NVR和暂时性表面颗粒。 XpressKleen XP 5nm过滤器的每个方面，包括PTFE树脂到终包装的设计、控制和生产都致力于提供无与伦比的高性能，实现稳定和可重复的7nm以下颗粒滤除的新标准。 其低压差和5nm滤除精度实现特结合，使得过滤器适用于从供应点（POS）到工艺点（POP）的用途，可用于散料供应、循环批次过滤和单次晶片应用。作为污染控制系统的一个集成部分，XpressKleen XP 5nm过滤器可实现10nm及以上制造工艺需要的颗粒和纯度缺陷水平。 不去湿XpressKleen G2过滤器经验证可用于例如SPM和H3PO4等侵蚀性高温清洗化学物质、NH4OH、HCl、H2SO4和H2O2等浓化学品、IPA和其它溶剂、高ppm DIO3以及SC1和SC2等水性化学物质。 • 低溶出<500ppt 总共19种元素 <0.1ppb（Ni）、<0.2ppb（Cu） • >20nm颗粒冲洗控制（UPW） • TOC控制 • 使用超纯水包装100%预润湿发货 • 大流量 • 可下游通气的G2 KC总成 • 滤芯一体式密封在滤壳中的一次性过滤器装置 • 密封总成的操作更安全、更换更快 • 100%通过完整性测试 1 KC总成的19种元素总金属浓度：Al、Ba、B、K、Na、Fe、Li、Mg、Mn、Pb、Sn、Ti、Zn、Ni、Cu、Cr、Co、Ca、Ag。详情请咨询工厂。
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